中國儀器進(jìn)出口集團(tuán) 對下列產(chǎn)品及服務(wù)進(jìn)行國際公開競爭性招標(biāo),于2024-04-30在公告。本次招標(biāo)采用傳統(tǒng)招標(biāo)方式,現(xiàn)邀請合格投標(biāo)人參加投標(biāo)。1、招標(biāo)條件項目概況:設(shè)備名稱:離子束刻蝕機(jī)設(shè)備數(shù)量:1臺設(shè)備用途:主要用于8英寸MEMS工藝中的金屬膜層(Au、Ti)的刻蝕加工。資金到位或資金來源落實情況:資金已到位項目已具備招標(biāo)條件的說明:已具備2、招標(biāo)內(nèi)容招標(biāo)項目編號:0709-244035614023招標(biāo)項目名稱:8英寸MEMS晶圓生產(chǎn)線之離子束刻蝕機(jī)項目實施地點:中國安徽省招標(biāo)產(chǎn)品列表(主要設(shè)備):
3、投標(biāo)人資格要求投標(biāo)人應(yīng)具備的資格或業(yè)績:(1)投標(biāo)人是響應(yīng)招標(biāo)、已在招標(biāo)人或招標(biāo)機(jī)構(gòu)處領(lǐng)購招標(biāo)文件并參加投標(biāo)競爭的法人或其他組織。任何未在招標(biāo)人或招標(biāo)機(jī)構(gòu)處領(lǐng)購招標(biāo)文件的法人或其他組織均不得參加投標(biāo)。(2)凡是來自中華人民共和國或是與中華人民共和國有正常貿(mào)易往來的國家或地區(qū)的法人或其他組織均可投標(biāo)。(3)與招標(biāo)人存在利害關(guān)系可能影響招標(biāo)公正性的法人或其他組織不得參加投標(biāo)。(4)接參與項目前期咨詢和招標(biāo)文件編制的法人或其他組織不得參加一家代理商參與本項目投標(biāo)。同一品牌的制造商和代理商不能同時參加本項目的投標(biāo)。(11)投標(biāo)人可以是設(shè)備制造廠家或設(shè)備授權(quán)代理商,代理商需有設(shè)備原廠家的有效授權(quán)書;并且具有設(shè)備技術(shù)支持和服務(wù)能力。(12)投標(biāo)人可以是設(shè)備制造廠家或設(shè)備再制造廠商,也可以是設(shè)備授權(quán)代理商,代理商需有設(shè)備原廠家的有效授權(quán)書;并且具有設(shè)備技術(shù)支持和服務(wù)能力。要求2020年至今同類型設(shè)備出貨量與驗收數(shù)量大于10臺,國產(chǎn)設(shè)備與再制造廠商提供合同和驗收材料,進(jìn)口全新設(shè)備出具蓋章的業(yè)績說明材料。(13)試樣要求:招標(biāo)人有權(quán)利依次對滿足標(biāo)書要求的設(shè)備進(jìn)行樣品試制,試制樣品須滿足本標(biāo)書第三條(主要技術(shù)指標(biāo))中樣品試制要求。招標(biāo)方提供樣片給投標(biāo)方,投標(biāo)方使用參與投標(biāo)的同型號設(shè)備,測試過程由招標(biāo)方進(jìn)行現(xiàn)場監(jiān)督,招標(biāo)方按照試制樣品驗收指標(biāo)要求進(jìn)行工藝測試,測試完成后提交招標(biāo)方檢測評估,檢測評估合格,投標(biāo)方才具備投標(biāo)資格。是否接受聯(lián)合體投標(biāo):不接受未領(lǐng)購招標(biāo)文件是否可以參加投標(biāo):不可以4、
未曾在中國電力招標(biāo)采購網(wǎng)()上注冊會員的單位應(yīng)先注冊。登錄成功后根據(jù)招標(biāo)公告的相說明下載投標(biāo)文件!
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備注:欲購買招標(biāo)文件的潛在投標(biāo)人,注冊網(wǎng)站并繳納因特網(wǎng)技術(shù)服務(wù)費后,查看項目業(yè)主,招標(biāo)公告,中標(biāo)公示等,并下載資格預(yù)審范圍,資質(zhì)要求,招標(biāo)清單,報名申請表等。為保證您能夠順利投標(biāo),具體要求及購買標(biāo)書操作流程按公告詳細(xì)內(nèi)容為準(zhǔn),以招標(biāo)業(yè)主的解答為準(zhǔn)本。
編輯:chinabidding.co
序號 | 產(chǎn)品名稱 | 數(shù)量 | 簡要技術(shù)規(guī)格 | 備注 |
1 | 離子束刻蝕機(jī) | 1套 | *刻蝕工藝腔 要求腔室內(nèi)部安裝有易拆卸替換的專用內(nèi)襯板、柵網(wǎng)、觀察窗、石英放電腔等,可實現(xiàn)設(shè)備真空腔室的快速清理和維護(hù),要求設(shè)備配備兩套內(nèi)襯板,兩套柵網(wǎng),兩套石英放電腔、兩套觀察窗、兩套中和器,一套在用,一套備用;工藝腔室為模塊化平臺構(gòu)造,包含氣體氣路、腔室本體、ESC下電極、電源分配模塊接口、傳送腔體接口等;對于刻蝕窗口暴露面積超過10%的晶圓,具備終點檢測抓取能力。 對于厚度300μm~1100μm的8英寸晶圓片,金(Au)薄膜刻蝕應(yīng)滿足以下指標(biāo): *(1)金(Au)刻蝕速率≥800?/min; |
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